纳米集成电路FinFET器件物理与模型

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Bibliographic Details
Main Authors: (美) 萨哈 (Saha, Samar K.) ((美)萨马·K. 萨哈(Samar K. Saha)著)
Group Author: 丁扣宝 (译)
Published: 机械工业出版社
Publisher Address: 北京
Publication Dates: 2022
Literature type: Book
Language: Chinese
Series: 集成电路科学与工程丛书
Subjects:
Carrier Form: 13,238页: 图 ; 24cm
ISBN: 978-7-111-69481-6
Index Number: TN405
CLC: TN405
Call Number: TN405/4260
Contents: 本书主要内容有:主流MOSFET在22nm节点以下由于短沟道效应所带来的缩小限制概述;基本半导体电子学和pn结工作原理;多栅MOS电容器系统的基本结构和工作原理;非平面CMOS工艺中的FinFET器件结构和工艺技术;FinFET基本理论;FinFET小尺寸效应;FinFET泄漏电流;FinFET寄生电阻和寄生电容;FinFET工艺、器件和电路设计面临的主要挑战;FinFET器件紧凑模型,系统讲解FinFET器件电子学,介绍FinFET器件的结构、工作原理和模型等。