Screen Library光学光刻和极紫外光刻 = Optical and euv lithography: a modeling perspective
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| Group Author: | ; ; |
| Published: |
上海科学技术出版社
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| Publisher Address: | 上海 |
| Publication Dates: | 2023 |
| Literature type: | Book |
| Language: | Chinese |
| Subjects: | |
| Carrier Form: | 316页: 图 ; 24cm |
| ISBN: | 978-7-5478-5720-5 |
| Index Number: | TN305 |
| CLC: | TN305.7 |
| Call Number: | TN305.7/2426 |
| Contents: |
元基石 有书目 本书是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，作者涵盖了全面又丰富的内容。在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，作者采用了完整但不繁琐的方法，增加了该书的可读性。该书在完整地解释了光学光刻技术的基本内容后，专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。 |