Screen LibraryZemax光学设计实践基础
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| Main Authors: | ; ; |
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| Published: |
电子工业出版社
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| Publisher Address: | 北京 |
| Publication Dates: | 2023 |
| Literature type: | Book |
| Language: | Chinese |
| Subjects: | |
| Carrier Form: | 194页: 图 ; 26cm |
| ISBN: | 978-7-121-46624-3 |
| Index Number: | TN202 |
| CLC: | TN202 |
| Call Number: | TN202/0265 |
| Contents: |
光电信息科学与工程类专业精品教材 有书目 (第193-194页) 本书首先给出Zemax光学设计入门操作、优化的基本概念、透镜基本原理与基本优化设计、平面系统设计、光束限制设计与多重结构设计、光能计算、像差计算；然后给出像质评价、Zemax优化设计方法、面向光通信模块的4个设计案例和面向成像镜头的三片式成像系统及苹果手机镜头设计案例；最后给出超构透镜与Zemax联合设计案例。 |