真空镀膜原理与技术

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Bibliographic Details
Main Authors: 方应翠 (方应翠主编)
Published: 科学出版社
Publisher Address: 北京
Publication Dates: 2014
Literature type: Book
Language: Chinese
Subjects:
Carrier Form: 213页: 图,照片 ; 24cm
ISBN: 978-7-03-039898-7
Index Number: TN305
CLC: TN305.8
Call Number: TN305.8/0201
Contents: 本书阐述了真空镀膜的应用,以及真空镀膜薄膜在基体表面生长的过程,探讨了薄膜生长的影响因素。具体介绍了真空镀膜的各种方法,包括真空蒸发镀、真空溅射镀、真空离子镀以及化学气相沉积的原理、特点、装置及应用技术等。