薄膜技术与应用

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Bibliographic Details
Main Authors: 冯丽萍 (冯丽萍,刘正堂编著); 刘正堂
Published: 西北工业大学出版社
Publisher Address: 西安
Publication Dates: 2016
Literature type: Book
Language: Chinese
Series: 西北工业大学研究生高水平课程体系建设丛书
Subjects:
Carrier Form: 222页: 图 ; 26cm
ISBN: 978-7-5612-4739-6
Index Number: TB43
CLC: TB43
Call Number: TB43/3114
Contents: 有书目(第217-222页)
本书为研究生高水平课程教材。全书主要内容包括真空技术基础、真空蒸发镀膜、分子束外延生长、溅射镀膜、激光脉冲沉积、离子镀和离子束沉积、化学气相沉积、原子层沉积(ALD)镀膜、溶液镀膜法和自组装膜等。