集成电路版图设计

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Bibliographic Details
Main Authors: 美 塞因特 C. (Christopher Saint,Judy Saint[著]); 美 Saint Christopher; 美 塞因特 J.; 美 Saint Judy
Published: 清华大学出版社
Publisher Address: 北京
Publication Dates: 2004
Literature type: Book
Language: English
Edition: 影印本
Series: 国外大学优秀教材 : 影印版微电子类系列
Subjects:
Carrier Form: 457页: ; 23cm
ISBN: 7-302-07730-4
Index Number: TN402
CLC: TN402
Call Number: TN402/3162
Contents: 正文为英文
本书内容覆盖了模拟电路、数字电路、标准单元、高频电路、双极型和射频集成电路的版图设计技术,讨论了版图设计中有关匹配、寄生参数、噪声、布局、验证、封装等问题及数据格式,提供了CMOS放大器与双极型混频器的版图设计。
Note: 书名原文:IC Mask Design:Essential Layout Techniques