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第三代半导体技术与应用 = The third generation of semiconductor technology and application

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Bibliographic Details
Main Authors: 姚玉 (姚玉,洪华主编); 洪华
Published: 暨南大学出版社
Publisher Address: 广州
Publication Dates: 2021
Literature type: Book
Language: Chinese
Subjects:
Carrier Form: 330页: 图 ; 26cm
ISBN: 978-7-5668-3238-2
Index Number: TN3
CLC: TN3
Call Number: TN3/4411
Contents: 中国芯片制造系列
附书目:315-326页
本书较为全面地阐述了不同晶型的碳化硅从长晶、衬底制造、外延制造全流程的生产技术,展现了国内外碳化硅制造领域近期的发展成果,论述了碳化硅材料的热力学性质、生长原理、晶体掺杂和缺陷控制等相关基础理论,以及生长数据建模、测试表征等各方面知识,介绍了碳化硅上的氮化镓生长、碳化硅材料加工与封装关键工艺和碳化硅器件在各个领域的应用、前景及发展趋势等知识,是读者全面了解第三代半导体器件与系统的重要参考。