表面去污技术及应用 = Developments in surface contamination and cleaning vol.11 applications of cleaning techniques

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Bibliographic Details
Main Authors: (美) 科里 Kohli, Rajiv ((美)雷吉维·科里(Rajiv Kohli), (美)卡什米里·拉尔·米塔尔(K.L. Mittal)主编); (美) 米塔尔 Mittal, K. L.
Group Author: 李战国 (译); 李健 (译); 王毅 (译)
Published: 化学工业出版社
Publisher Address: 北京
Publication Dates: 2022
Literature type: Book
Language: Chinese
Subjects:
Carrier Form: 573页: 图 ; 26cm
ISBN: 978-7-122-41908-8
Index Number: TG176
CLC: TG176
Call Number: TG176/2961
Contents: ELSEVIER
本书阐述了声波、可剥离涂层、二氧化碳雪、固态二氧化碳(干冰)、液态二氧化碳、超临界二氧化碳、激光、等离子体、紫外-臭氧、静电、高速冲击空气射流、微磨、微生物、离子液体、干蒸汽等一系列表面去污技术原理、工艺参数及其影响因素、应用案例、成本效益和优缺点等,是对近年来表面去污技术最新进展的总结。