Screen Library真空镀膜技术与设备
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| Main Authors: | |
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| Published: |
冶金工业出版社
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| Publisher Address: | 北京 |
| Publication Dates: | 2014 |
| Literature type: | Book |
| Language: | Chinese |
| Subjects: | |
| Carrier Form: | 249页: 图，表 ; 26cm |
| ISBN: | 978-7-5024-6638-1 |
| Index Number: | TN305 |
| CLC: | TN305.8-43 |
| Call Number: | TN305.8/1229-1 |
| Contents: |
普通高等教育“十二五”规划教材 有书目（第247-249页） 本书系统阐述了各种真空镀膜技术的基本概念、工作原理和应用，真空镀膜结构及蒸发源，磁控靶的设计计算，薄膜厚度的测量技术，薄膜与表面分析和检测技术等。重点介绍了近年来出现的一些镀膜方法与技术，以及真空镀膜机设计计算等方面的内容。 |