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低温真空技术：基础和应用

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Bibliographic Details
Main Authors: 黑费尔 R.A. ((德)黑费尔(Hacfer,R.A.)著); Haefer R.A.
Group Author: 李旺奎 (译)
Published: 电子工业出版社
Publisher Address: 北京
Publication Dates: 1985
Literature type: Book
Language: Chinese
Subjects:
低温--真空技术 > 基础 > 应用
真空技术--低温 > 基础 > 应用
低温物理学 > 真空技术
真空技术 > 低温物理学
Carrier Form: 318页: ; 21cm
Index Number: TB655
CLC: TB655
Call Number: TB655/6352
Contents: 其他题名：基础和应用

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