回归原点:为坐而设计
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Main Authors: | |
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Published: |
北京美术摄影出版社
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Publisher Address: | 北京 |
Publication Dates: | 2016 |
Literature type: | Book |
Language: | Chinese |
Subjects: | |
Carrier Form: | 218页: 照片 ; 23cm |
ISBN: | 978-7-80501-892-8 |
Index Number: | TS665 |
CLC: | TS665.4 |
Call Number: | TS665.4/3129-1 |
Contents: | 本书围绕着从2002年到2015年,第1至第6届“为坐而设计”作品展中,具有创意性的设计作品进行编著。希望透过十几年标榜着原创设计的国际化赛事,看到中国十几年原创设计的轨迹。 |