回归原点:为坐而设计

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Bibliographic Details
Main Authors: 江黎 女, 1959-) (江黎编著)
Published: 北京美术摄影出版社
Publisher Address: 北京
Publication Dates: 2016
Literature type: Book
Language: Chinese
Subjects:
Carrier Form: 218页: 照片 ; 23cm
ISBN: 978-7-80501-892-8
Index Number: TS665
CLC: TS665.4
Call Number: TS665.4/3129-1
Contents: 本书围绕着从2002年到2015年,第1至第6届“为坐而设计”作品展中,具有创意性的设计作品进行编著。希望透过十几年标榜着原创设计的国际化赛事,看到中国十几年原创设计的轨迹。