Screen Library集成电路与等离子体装备 = Integrated circuit and plasma based apparatus
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| Main Authors: | |
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| Published: |
科学出版社
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| Publisher Address: | 北京 |
| Publication Dates: | 2024 |
| Literature type: | Book |
| Language: | Chinese |
| Subjects: | |
| Carrier Form: | 282页: 图，彩照 ; 24cm |
| ISBN: | 978-7-03-077546-7 |
| Index Number: | TN4 |
| CLC: |
TN4 TN305.7 |
| Call Number: | TN4/4814 |
| Contents: | 本书介绍了集成电路中与等离子体设备相关的内容，具体包括集成电路简史、分类和发展方向以及面临的挑战，气体放电的基本原理和典型应用、等离子体刻蚀工艺与设备、等离子体表面处理技术与设备、物理气相沉积设备与工艺、等离子体增强化学气相沉积工艺与设备、高密度等离子体化学气相沉积工艺与设备、炉管设备与工艺等。 |