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爱德曼
(德)安德里亚斯·爱德曼(Andreas Erdmann)著
(德)安迪·爱德曼(Andreas Erdmann)著
(捷克)彼得·卡普斯塔(Peter Kapusta)，迈克尔·沃尔(Michael Wahl)，雷纳·埃尔德曼(Rainer Erdmann)著
(法)爱克德曼罗(Actermello)著
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(法)爱克德曼罗著
(美)戴维·K.希尔德兰德(David K.Hildebrand)，(美)加德曼·R.爱沃森(Gudmund R.Iversen)，(美)约翰·H.奥尔德里奇(John H.Aldrich)等著
徐东波
李思坤
诸波尔

1
无家儿

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Main Authors: 爱克德曼罗 法 ((法)爱克德曼罗著); Actermello 法
Group Author: 陈秋帆 (译)
Published: 商务印书馆
Publication Dates: 1950
Call Number: 874.5943/2242
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2
无家儿

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Main Authors: 爱克德曼罗 ((法)爱克德曼罗(Actermello)著); Actermello
Group Author: 陈秋帆 (著)
Published: 商务印书馆
Publication Dates: 1950.1印行
Call Number: 079290
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3
先进光子计数技术

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Main Authors: (捷克) 卡普斯塔 Kapusta, Peter ((捷克)彼得·卡普斯塔(Peter Kapusta)，迈克尔·沃尔(Michael Wahl)，雷纳·埃尔德曼(Rainer Erdmann)著); (捷克) 沃尔 Wahl, Michael; (捷克) 埃尔德曼 Erdmann, Rainer
Group Author: 孙志斌 (译); 闫召爱 (译)
Published: 国防工业出版社
Publication Dates: 2022
Call Number: TN2/2284
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4
社会统计方法与技术

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Main Authors: 美 希尔德兰德 D.K Hildebrand,David K. ((美)戴维·K.希尔德兰德(David K.Hildebrand)，(美)加德曼·R.爱沃森(Gudmund R.Iversen)，(美)约翰·H.奥尔德里奇(John H.Aldrich)等著); 美 爱沃森 G.R Iversen,Gudmund R.; 美 奥尔德里奇 J.H Aldrich,John H.
Published: 社会科学文献出版社
Publication Dates: 2005
Call Number: C81/4222
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5
半导体先进光刻理论与技术

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Main Authors: (德) 爱德曼 Erdmann, Andreas (著)
Group Author: 李思坤 (译)
Published: 化学工业出版社
Publication Dates: 2023
Call Number: TN305.7/2426-1
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6
光学光刻和极紫外光刻

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Main Authors: (德) 爱德曼 Erdmann, Andreas (著)
Group Author: 高伟民 (译); 徐东波 (译); 诸波尔 (译)
Published: 上海科学技术出版社
Publication Dates: 2023
Call Number: TN305.7/2426
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