Screen LibraryMOS集成电路工艺与制造技术
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| Main Authors: | |
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| Published: |
上海科学技术出版社
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| Publisher Address: | 上海 |
| Publication Dates: | 2012 |
| Literature type: | Book |
| Language: | Chinese |
| Subjects: | |
| Carrier Form: | 489页: ; 26cm |
| ISBN: | 978-7-5478-0980-8 |
| Index Number: | TN432 |
| CLC: | TN432 |
| Call Number: | TN432/3145-1 |
| Contents: | 本书介绍了硅集成电路制造技术中的基础工艺，内容包括硅衬底与清洗、氧化、扩散、离子注人、外延、化学气相淀积、光刻与腐蚀/刻蚀、金属化与多层布线、表面钝化以及工艺集成制造技术等。 |