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集成电路制造工艺与工程应用

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Bibliographic Details
Main Authors: 温德通 (温德通编著)
Published: 机械工业出版社
Publisher Address: 北京
Publication Dates: 2018
Literature type: Book
Language: Chinese
Subjects:
Carrier Form: 17,241页: 图 ; 24cm
ISBN: 978-7-111-59830-5
Index Number: TN405
CLC: TN405
Call Number: TN405/3123
Contents: 本书以实际应用为出发点,对集成电路制造的主流工艺技术进行了逐一介绍,例如应变硅技术、HKMG技术、SOI技术和FinFET技术,然后从工艺整合的角度,通过图文对照的形式对典型工艺进行介绍,例如隔离技术、硬掩膜版技术、LDD技术、金属硅化技术、ESD IMP工艺技术以及Al和Cu金属互连。然后把这些工艺技术应用于实际工艺流程中,通过实例让读者能快速的掌握具体工艺技术的实际应用。