集成电路制造技术
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Main Authors: | |
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Published: |
化学工业出版社
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Publisher Address: | 北京 |
Publication Dates: | 2016 |
Literature type: | Book |
Language: | Chinese |
Subjects: | |
Carrier Form: | 172页: 图 ; 24cm |
ISBN: | 978-7-122-26284-4 |
Index Number: | TN405 |
CLC: | TN405 |
Call Number: | TN405/4951 |
Contents: | 本书全面、系统地介绍了集成电路制造技术,内容包括集成电路制造概述、多晶半导体的制备、单晶半导体的制备、晶圆制备、薄膜制备、金属有机物化学气相沉积、光刻、刻蚀及掺杂。书中简要介绍了集成电路制造的基本理论基础,系统地介绍了多晶半导体、单晶半导体与晶圆的制备,详细介绍了薄膜制备、光刻与刻蚀及掺杂等工艺。 |